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HAL : hal-00152970, version 1

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Materials Science in Semiconductor Processing 9 (2006) 949-953
Interfaces between gamma-Al2O3 and silicon
P. Boulenc 1, I. Devos
(2006)
1 :  Institut d'électronique, de microélectronique et de nanotechnologie (IEMN)
CNRS : UMR8520 – Institut supérieur de l'électronique et du nunérique (ISEN) – Université Lille I - Sciences et technologies – Université de Valenciennes et du Hainaut-Cambresis

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