Publications HAL de Dussart du labo/EPI GREMI

2020

auteur: Sebastian Dzikowski, Ronan Michaud, Henrik Böttner, Rémi Dussart, Marc Böke, Volker Schulz-von Der Gathen
titre: Modular constructed metal-grid arrays—an alternative to silicon-based microplasma devices for catalytic applications
article: Plasma Sources Science and Technology, 2020, 29 (3), pp.035028. ⟨10.1088/1361-6595/ab71f6⟩
DOI: DOI : 10.1088/1361-6595/ab71f6
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2019

auteur: Gaelle Antoun, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Rémi Dussart, Kumiko Yamazaki, Koichi Yatsuda, Jacques Faguet, Kaoru Maekawa
titre: Cryo atomic layer etching of SiO 2 by C F8 physisorption followed by Ar plasma
article: Applied Physics Letters, 2019, 115 (15), pp.153109. ⟨10.1063/1.5119033⟩
DOI: DOI : 10.1063/1.5119033
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auteur: Gaelle Antoun, Rémi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Christophe Cardinaud, Aurélie Girard, Shigeru Tahara, Kumiko Yamazaki, Koichi Yatsuda, Jacques Faguet, Kaoru Maekawa
titre: The role of physisorption in the cryogenic etching process of silicon
article: Japanese Journal of Applied Physics, 2019, 58 (SE), pp.SEEB03. ⟨10.7567/1347-4065/ab1639⟩
DOI: DOI : 10.7567/1347-4065/ab1639
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auteur: Sylvain Iséni, Ronan Michaud, Philippe Lefaucheux, Goran Sretenović, Volker Schulz-von Der Gathen, Remi Dussart
titre: On the validity of neutral gas temperature by emission spectroscopy in micro-discharges close to atmospheric pressure
article: Plasma Sources Science and Technology, 2019, 28 (6), pp.065003. ⟨10.1088/1361-6595/ab1dfb⟩
DOI: DOI : 10.1088/1361-6595/ab1dfb
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2018

auteur: Romain Chanson, Liping Zhang, Sergej Naumov, Yuri Mankelevich, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Rémi Dussart, Stefan de Gendt, Jean-François de Marneffe
titre: Damage-free plasma etching of porous organo-silicate low-k using micro-capillary condensation above −50 °C
article: Scientific Reports, 2018, 8, pp.1886. ⟨10.1038/s41598-018-20099-5⟩
DOI: DOI : 10.1038/s41598-018-20099-5
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auteur: Mukesh Kulsreshath, Alexane Vital, Philippe Lefaucheux, Christophe Sinturel, Thomas Tillocher, Marylène Vayer, Mohamed Boufnichel, Rémi Dussart
titre: High aspect ratio etched sub-micron structures in silicon obtained by cryogenic plasma deep-etching through perforated polymer thin films
article: Micro and Nano Engineering, 2018, 1, pp.42-48. ⟨10.1016/j.mne.2018.10.007⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.mne.2018.10.007
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auteur: Edouard Laudrel, Thomas Tillocher, Yannick Meric, Philippe Lefaucheux, Bertrand Boutaud, Rémi Dussart
titre: The effect of SF 6 addition in a Cl 2 /Ar inductively coupled plasma for deep titanium etching
article: Journal of Micromechanics and Microengineering, 2018, 28 (5), ⟨10.1088/1361-6439/aaafe7⟩
DOI: DOI : 10.1088/1361-6439/aaafe7
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auteur: Ronan Michaud, Valentin Felix, Arnaud Stolz, Olivier Aubry, Philippe Lefaucheux, Sebastian Dzikowski, Volker Schulz-von Der Gathen, Lawrence Overzet, Rémi Dussart
titre: Direct current microhollow cathode discharges on silicon devices operating in argon and helium
article: Plasma Sources Science and Technology, 2018, 27 (2), pp.025005. ⟨10.1088/1361-6595/aaa870⟩
DOI: DOI : 10.1088/1361-6595/aaa870
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2017

auteur: Joe Sakai, Erwann Luais, Jérôme Wolfman, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Francois Tran-Van, Fouad Ghamouss
titre: Cryogenic plasma-processed silicon microspikes as a high-performance anode material for lithium ion-batteries
article: Journal of Applied Physics, 2017, 122 (15), pp.155103. ⟨10.1063/1.4997713⟩
DOI: DOI : 10.1063/1.4997713
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auteur: Stefan Tinck, Thomas Tillocher, Violetta Georgieva, Rémi Dussart, Erik Neyts, Annemie Bogaerts
titre: Concurrent effects of wafer temperature and oxygen fraction on cryogenic silicon etching with SF6/O2 plasmas
article: Plasma Processes and Polymers, 2017, 14 (9), pp.1700018. ⟨10.1002/ppap.201700018⟩
DOI: DOI : 10.1002/ppap.201700018
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auteur: Alexane Vital, Marylène Vayer, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Mohamed Boufnichel, Christophe Sinturel
titre: Morphology control in thin films of PS: PLA homopolymer blends by dip-coating deposition
article: Applied Surface Science, 2017, 393, pp.127-133. ⟨10.1016/j.apsusc.2016.09.151⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.apsusc.2016.09.151
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2016

auteur: Valentin Felix, Philippe Lefaucheux, Olivier Aubry, Judith Golda, Volker Schulz-von Der Gathen, Lawrence J. Overzet, Remi Dussart
titre: Origin of microplasma instabilities during DC operation of silicon based microhollow cathode devices
article: Plasma Sources Science and Technology, 2016, 25, pp.025021. ⟨10.1088/0963-0252/25/2/025021⟩
DOI: DOI : 10.1088/0963-0252/25/2/025021
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auteur: Wassim Kafrouni, Thomas Tillocher, Julien Ladroue, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson, Rémi Dussart
titre: Parametric study of STiGer etching process in order to reduce extended formation of scalloping defects on the sidewalls of silicon submicron trenches
article: Vacuum, 2016, 133, pp.90. ⟨10.1016/j.vacuum.2016.08.019⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.vacuum.2016.08.019
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auteur: Stefan Tinck, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Erik Neyts, Annemie Bogaerts
titre: Elucidating the effects of gas flow rate on an SF6 inductively coupled plasma and on the silicon etch rate, by a combined experimental and theoretical investigation
article: Journal of Physics D: Applied Physics, 2016, 49 (38), pp.385201. ⟨10.1088/0022-3727/49/38/385201⟩
DOI: DOI : 10.1088/0022-3727/49/38/385201
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auteur: Liping Zhang, Jean-Francois de Marneffe, Floriane Leroy, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Kaoru Maekawa, Koichi Yatsuda, Christian Dussarrat, Andy Goodyear, Cooke Mike, Stefan de Gendt, Mikhail Baklanov
titre: Mitigation of plasma-induced damage in porous low-k dielectrics by cryogenic precursor condensation
article: Journal of Physics D: Applied Physics, 2016, 49 (17), pp.175203. ⟨10.1088/0022-3727/49/17/175203⟩
DOI: DOI : 10.1088/0022-3727/49/17/175203
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2015

auteur: Nicolas Gosset, Mohamed Boufnichel, Emilie Bahette, Walid Khalfaoui, Rami Ljazouli, Virginie Grimal, Remi Dussart
titre: Single and multilayered materials processing by argon ion beam etching: study of ion angle incidence and defect formation
article: Journal of Micromechanics and Microengineering, 2015, 25, pp.095011. ⟨10.1088/0960-1317/25/9/095011⟩
DOI: DOI : 10.1088/0960-1317/25/9/095011
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auteur: Floriane Leroy, Liping Zhang, Thomas Tillocher, Koichi Yatsuda, Kaoru Maekawa, Eichi Nishimura, Philippe Lefaucheux, Jean-Francois de Marneffe, Mikhail Baklanov, Remi Dussart
titre: Cryogenic etching processes applied to porous low-k materials using SF6/C4F8 plasmas
article: Journal of Physics D: Applied Physics, 2015, 48, pp.435202. ⟨10.1088/0022-3727/48/43/435202⟩
DOI: DOI : 10.1088/0022-3727/48/43/435202
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auteur: Stefan Tinck, Thomas Tillocher, Rémi Dussart, Annemie Bogaerts
titre: Cryogenic etching of silicon with SF6 inductively coupled plasmas: a combined modelling and experimental study
article: Journal of Physics D: Applied Physics, 2015, 48, pp.155204. ⟨10.1088/0022-3727/48/15/155204⟩
DOI: DOI : 10.1088/0022-3727/48/15/155204
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auteur: Alexane Vital, Marylène Vayer, Christophe Sinturel, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart, Mohamed Boufnichel
titre: Modification of poly(styrene) thin films and enhancement of cryogenic plasma etching resistance by ruthenium tetroxide vapor staining
article: Polymer, 2015, 76, pp.123-130. ⟨10.1016/j.polymer.2015.08.062⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.polymer.2015.08.062
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auteur: Alexane Vital, Marylène Vayer, Christophe Sinturel, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart
titre: Polymer masks for structured surface and plasma etching
article: Applied Surface Science, 2015, 332, pp.237. ⟨10.1016/j.apsusc.2015.01.040⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.apsusc.2015.01.040
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2014

auteur: Pierre-Antoine Cormier, A. Balhamri, Anne-Lise Thomann, Remi Dussart, Nadjib Semmar, Thomas Lecas, R. Snyders, Stephanos Konstantinidis
titre: Titanium oxide thin film growth by magnetron sputtering: Total energy flux and its relationship with the phase constitution
article: Surface and Coatings Technology, 2014, Vol 254 (2014), Volume 254, 15 September 2014, Pages 291-297. ⟨10.1016/j.surfcoat.2014.06.037⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.surfcoat.2014.06.037
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auteur: Remi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel
titre: Plasma cryogenic etching of silicon: from the early days to today's advanced technologies
article: Journal of Physics D: Applied Physics, 2014, pp.123001. ⟨10.1088/0022-3727/47/12/123001⟩
DOI: DOI : 10.1088/0022-3727/47/12/123001
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auteur: Mariem El Mokh, Amaël Caillard, Nadjib Semmar, Rémi Dussart, Thomas Lecas, Anne-Lise Thomann
titre: Energy Transferred From a Hot Nickel Target During Magnetron Sputtering
article: IEEE Transactions on Plasma Science, 2014, pp.Plasma Science, IEEE Transactions on (Volume:PP Issue: 99 ). ⟨10.1109/TPS.2014.2338742⟩
DOI: DOI : 10.1109/TPS.2014.2338742
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auteur: Judith Golda, Mukesh Kulsreshath, H Boettner, Valentin Felix, Remi Dussart, V Schulz-von Der Gathen
titre: Circular Emission and Destruction Patterns on a Silicon-Based Microdischarge Array
article: IEEE Transactions on Plasma Science, 2014, 42 (10), pp.2646. ⟨10.1109/TPS.2014.2337657⟩
DOI: DOI : 10.1109/TPS.2014.2337657
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auteur: Mukesh Kulsreshath, Judith Golda, V. Schulz-von Der Gathen, Remi Dussart
titre: Width dependent interaction of trench-like microdischarges arranged in sub-arrays on a single silicon based chip
article: Plasma Sources Science and Technology, 2014, 23, pp.045012. ⟨10.1088/0963-0252/23/4/045012⟩
DOI: DOI : 10.1088/0963-0252/23/4/045012
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auteur: Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Bertrand Boutaud, Remi Dussart
titre: Alternated process for the deep etching of titanium
article: Journal of Micromechanics and Microengineering, 2014, 24, pp.075021. ⟨10.1088/0960-1317/24/7/075021⟩
DOI: DOI : 10.1088/0960-1317/24/7/075021
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2013

auteur: Pierre-Antoine Cormier, Anne Lise Thomann, Vincent Dolique, A. Balhamri, Remi Dussart, Nadjib Semmar, Thomas Lecas, Pascal Brault, R. Snyders, Stephanos Konstantinidis
titre: IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition
article: Thin Solid Films, 2013, pp.547(2013) 44-49. ⟨10.1016/j.tsf.2013.07.025⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.tsf.2013.07.025
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auteur: P.-A. Cormier, A.-L. Thomann, Vincent Dolique, A. Balhamri, R. Dussart, N. Semmar, T. Lecas, P. Brault, R. Snyders, S. Konstantinidis
titre: IR emission from the target during plasma magnetron sputter deposition
article: Thin Solid Films, 2013, 545, pp.44-49. ⟨10.1016/j.tsf.2013.07.025⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.tsf.2013.07.025
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auteur: Pierre-Antoine Cormier, A. Balhamri, Anne-Lise Thomann, Remi Dussart, Nadjib Semmar, Jacky Mathias, R. Snyders, Stephanos Konstantinidis
titre: Measuring the energy flux at the substrate position during magnetron sputter deposition processes
article: Journal of Applied Physics, 2013, 113, pp.013305. ⟨10.1063/1.4773103⟩
DOI: DOI : 10.1063/1.4773103
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auteur: M. K. Kulsreshath, N. Sadeghi, L. Schwaederle, T. Dufour, L. J. Overzet, P. Lefaucheux, R. Dussart
titre: Ignition and extinction phenomena in helium micro hollow cathode discharges
article: Journal of Applied Physics, 2013, 114 (24), pp.243303. ⟨10.1063/1.4858418⟩
DOI: DOI : 10.1063/1.4858418
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auteur: Nasreddine Mekkakia Maaza, Remi Dussart, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson
titre: A novel amorphization-etch alternating process for Si(100)
article: Journal of Micromechanics and Microengineering, 2013, 23, pp.045023. ⟨10.1088/0960-1317/23/4/045023⟩
DOI: DOI : 10.1088/0960-1317/23/4/045023
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auteur: Anne-Lise Thomann, Pierre-Antoine Cormier, Vincent Dolique, Nadjib Semmar, Remi Dussart, Thomas Lecas, Blandine Courtois, Pascal Brault
titre: Energy transferred to the substrate surface during reactive magnetron sputtering of aluminum in Ar/O2 atmosphere
article: Thin Solid Films, 2013, 539, pp.88. ⟨10.1016/j.tsf.2013.05.075⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.tsf.2013.05.075
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auteur: Liping Zhang, Rami Ljazouli, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Yuri Mankelevich, Jean-Francois de Marneffe, Stefan de Gendt, Mikhail Baklanov
titre: Low Damage Cryogenic Etching of Porous Organosilicate Low-k Materials Using SF6/O2/SiF4
article: ECS Journal of Solid State Science and Technology, 2013, 2 (6), pp.N131. ⟨10.1149/2.001306jss⟩
DOI: DOI : 10.1149/2.001306jss
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2012

auteur: Sergey Abolmasov, Pierre-Antoine Cormier, A. Torres Rios, Remi Dussart, Nadjib Semmar, Anne-Lise Thomann, Pere Roca I Cabarrocas
titre: Probing dusty-plasma/surface interactions with a heat flux microsensor
article: Applied Physics Letters, 2012, pp.100, 1, 011601. ⟨10.1063/1.3674290⟩
DOI: DOI : 10.1063/1.3674290
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auteur: Thomas Defforge, Gaël Gautier, Thomas Tillocher, Remi Dussart, François Tran-Van
titre: Elaboration of high aspect ratio monocrystalline silicon suspended nanobridges by low temperature alkaline treatment of dry etched trenches
article: Journal of Vacuum Science & Technology A, 2012, 30 (1), pp.010601. ⟨10.1116/1.3665217⟩
DOI: DOI : 10.1116/1.3665217
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auteur: Mukesh Kulsreshath, Laurent Schwaederlé, Lawrence J. Overzet, Philippe Lefaucheux, Julien Ladroue, Thomas Tillocher, Olivier Aubry, M. Woytasik, G. Schelcher, Remi Dussart
titre: Study of dc micro-discharge arrays made in silicon using CMOS compatible technology
article: Journal of Physics D: Applied Physics, 2012, 45, pp.285202. ⟨10.1088/0022-3727/45/28/285202⟩
DOI: DOI : 10.1088/0022-3727/45/28/285202
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auteur: Laurent Schwaederlé, Mukesh Kulsreshath, Lawrence J. Overzet, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Remi Dussart
titre: Breakdown study of dc silicon micro-discharge devices
article: Journal of Physics D: Applied Physics, 2012, 45, pp.065201. ⟨10.1088/0022-3727/45/6/065201⟩
DOI: DOI : 10.1088/0022-3727/45/6/065201
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auteur: Liping Zhang, Rami Ljazouli, Philippe Lefaucheux, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Yuri Mankelevich, Jean-Francois de Marneffe, Stefan de Gendt, Mikhail Baklanov
titre: Damage Free Cryogenic Etching of a Porous Organosilica Ultralow-k Film
article: Electrochemical and Solid-State Letters, 2012, 2 (2), pp.N5. ⟨10.1149/2.007302ssl⟩
DOI: DOI : 10.1149/2.007302ssl
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2011

auteur: Thomas Defforge, Xi Song, Gaël Gautier, Thomas Tillocher, Remi Dussart, Sébastien Kouassi, François Tran-Van
titre: Scalloping removal on DRIE via using low concentrated alkaline solutions at low temperature
article: Sensors and Actuators A: Physical , 2011, 170 (1-2), pp.114. ⟨10.1016/j.sna.2011.05.028⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.sna.2011.05.028
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auteur: Corinne Y. Duluard, Pierre Ranson, Laurianne E. Pichon, Jeremy Pereira, El-Houcine Oubensaid, Philippe Lefaucheux, Michel Puech, Remi Dussart
titre: Alternating SiCl4/O2 passivation steps with SF6 etch steps for silicon deep etching
article: Journal of Micromechanics and Microengineering, 2011, 21, pp.065015
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auteur: Thomas Tillocher, Wassim Kafrouni, Julien Ladroue, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson, Remi Dussart
titre: Optimization of submicron deep trench profiles with the STiGer cryoetching process: reduction of defects
article: Journal of Micromechanics and Microengineering, 2011, 21, pp.085005. ⟨10.1088/0960-1317/21/8/085005⟩
DOI: DOI : 10.1088/0960-1317/21/8/085005
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2010

auteur: L Bedra, a L Thomann, N Semmar, R Dussart, J Mathias
titre: Highly sensitive measurements of the energy transferred during plasma sputter deposition of metals
article: Journal of Physics D: Applied Physics, 2010, 43 (6), pp.65202. ⟨10.1088/0022-3727/43/6/065202⟩
DOI: DOI : 10.1088/0022-3727/43/6/065202
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auteur: Pierre-Antoine Cormier, Marc Stahl, Anne-Lise Thomann, Rémi Dussart, Matthias Wolter, Nadjib Semmar, Jacky Mathias, Holger Kersten
titre: On the measurement of energy fluxes in plasmas using a calorimetric probe and a thermopile sensor
article: Journal of Physics D: Applied Physics, 2010, 43 (46), pp.465201. ⟨10.1088/0022-3727/43/46/465201⟩
DOI: DOI : 10.1088/0022-3727/43/46/465201
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auteur: Thierry Dufour, Lawrence J. Overzet, Remi Dussart, L. C. Pitchford, N Sadeghi, P Lefaucheux, M Kulsreshath, P Ranson
titre: Experimental study and simulation of a micro-discharge with limited cathode area
article: The European Physical Journal D : Atomic, molecular, optical and plasma physics, 2010, 60, pp.565-574. ⟨10.1140/epjd/e2010-00273-6⟩
DOI: DOI : 10.1140/epjd/e2010-00273-6
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auteur: Remi Dussart, Lawrence J. Overzet, P Lefaucheux, Thierry Dufour, M Kulsreshath, Monali Mandra, Thomas Tillocher, O Aubry, S Dozias, P Ranson, M Goeckner
titre: Integrated micro-plasmas in silicon operating in helium
article: The European Physical Journal D : Atomic, molecular, optical and plasma physics, 2010, 60, pp.601-608. ⟨10.1140/epjd/e2010-00272-7⟩
DOI: DOI : 10.1140/epjd/e2010-00272-7
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auteur: Remi Dussart, Lawrence J. Overzet, Philippe Lefaucheux, Thierry Dufour, Mukesh Kulsreshath, Monali Mandra, Thomas Tillocher, Olivier Aubry, Sébastien Dozias, Pierre Ranson, Jeong Bong Lee, Matthew Goeckner
titre: Integrated micro-plasmas in silicon operating in helium
article: The European Physical Journal D : Atomic, molecular, optical and plasma physics, 2010, 60, pp.601. ⟨10.1140/epjd/e2010-00272-7⟩
DOI: DOI : 10.1140/epjd/e2010-00272-7
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auteur: Lawrence J. Overzet, D. Jung, Monali Mandra, Matthew Goeckner, Thierry Dufour, Remi Dussart, Philippe Lefaucheux
titre: RF impedance measurements of DC atmospheric micro-discharges
article: The European Physical Journal D : Atomic, molecular, optical and plasma physics, 2010, 60, pp.449-454. ⟨10.1140/epjd/e2010-00274-5⟩
DOI: DOI : 10.1140/epjd/e2010-00274-5
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auteur: Julien Ladroue, Aline Meritan, Mohamed Boufnichel, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson, Remi Dussart
titre: Deep GaN etching by inductively coupled plasma and induced surface defects
article: Journal of Vacuum Science & Technology A, 2010, 28 (5), pp.1226. ⟨10.1116/1.3478674⟩
DOI: DOI : 10.1116/1.3478674
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auteur: Lawrence J. Overzet, D. Jung, Monali Mandra, Matthew Goeckner, Thierry Dufour, Remi Dussart, Philippe Lefaucheux
titre: RF impedance measurements of DC atmospheric micro-discharges
article: The European Physical Journal D : Atomic, molecular, optical and plasma physics, 2010, 60, pp.449. ⟨10.1140/epjd/e2010-00274-5⟩
DOI: DOI : 10.1140/epjd/e2010-00274-5
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2009

auteur: Corinne Y. Duluard, Pierre Ranson, Laurianne E. Pichon, El-Houcine Oubensaid, Jeremy Pereira, Philippe Lefaucheux, Michel Puech, Remi Dussart
titre: Neutral species in inductively coupled SF6/SiCl4 plasmas
article: Journal of Physics D: Applied Physics, 2009, 42, pp.115206
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auteur: El-Houcine Oubensaid, Corinne Y. Duluard, Laurianne E. Pichon, B. Morillon, Mohamed Boufnichel, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart, Pierre Ranson
titre: Cryogenic etching of n-type silicon with p+ doped walls with the TGZM process through the Al/Si eutectic alloy
article: Microelectronic Engineering, 2009, 86, pp.2262. ⟨10.1016/j.mee.2009.04.002⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.mee.2009.04.002
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auteur: El-Houcine Oubensaid, Corinne Y. Duluard, Laurianne E. Pichon, Jeremy Pereira, Mohamed Boufnichel, Philippe Lefaucheux, Remi Dussart, Pierre Ranson
titre: Effect of the addition of SF6 and N2 in inductively coupled SiCl4 plasma for GaN etching
article: Semiconductor Science & Technology, 2009, 24, pp.075022. ⟨10.1088/0268-1242/24/7/075022⟩
DOI: DOI : 10.1088/0268-1242/24/7/075022
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auteur: Jeremy Pereira, Laurianne E. Pichon, Remi Dussart, Christophe Cardinaud, Corinne Y. Duluard, El-Houcine Oubensaid, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson
titre: In situ x-ray photoelectron spectroscopy analysis of SiOxFy passivation layer obtained in a SF6/O2 cryoetching process
article: Applied Physics Letters, 2009, 94, pp.071501. ⟨10.1063/1.3085957⟩
DOI: DOI : 10.1063/1.3085957
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2008

auteur: Thierry Dufour, Remi Dussart, P Lefaucheux, P Ranson, Lawrence J. Overzet, M Mandra, J.-B Lee, M Goeckner
titre: Effect of limiting the cathode surface on direct current microhollow cathode discharge in helium
article: Applied Physics Letters, 2008, 93 (071508), ⟨10.1063/1.2966144͔⟩
DOI: DOI : 10.1063/1.2966144͔
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auteur: Thierry Dufour, Remi Dussart, Philippe Lefaucheux, Pierre Ranson, Lawrence J. Overzet, Monali Mandra, Jeong B. Lee, Matthew Goeckner
titre: Effect of limiting the cathode surface on direct current microhollow cathode discharge in helium
article: Applied Physics Letters, 2008, 93, pp.071508. ⟨10.1063/1.2966144⟩
DOI: DOI : 10.1063/1.2966144
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auteur: Corinne Y. Duluard, Remi Dussart, Thomas Tillocher, Laurianne E. Pichon, Philippe Lefaucheux, Michel Puech, Pierre Ranson
titre: SO2 passivating chemistry for silicon cryogenic deep etching
article: Plasma Sources Science and Technology, 2008, 17, pp.045008. ⟨10.1088/0963-0252/17/4/045008⟩
DOI: DOI : 10.1088/0963-0252/17/4/045008
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auteur: Remi Dussart, Anne-Lise Thomann, Laurianne E. Pichon, Larbi Bedra, Nadjib Semmar, Philippe Lefaucheux, Jacky Mathias, Yves Tessier
titre: Direct measurements of the energy flux due to chemical reactions at the surface of a silicon sample interacting with a SF6 plasma
article: Applied Physics Letters, 2008, 93, pp.131502. ⟨10.1063/1.2995988⟩
DOI: DOI : 10.1063/1.2995988
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auteur: Remy Dussart, Anne-Lise Thomann, Laurianne E. Pichon, Larbi Bedra, Nadjib Semmar, Philippe Lefaucheux, Yves Tessier, Jacky Mathias
titre: Direct measurements of the energy flux due to chemical reactions at the surface of silicon sample interacting with SF6 plasma
article: Applied Physics Letters, 2008, 93, pp.131502
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auteur: Thomas Tillocher, Remi Dussart, Lawrence J. Overzet, Xavier Mellhaoui, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson
titre: Two Cryogenic Processes Involving SF6, O2, and SiF4 for Silicon Deep Etching
article: Journal of The Electrochemical Society, 2008, 155 (3), pp.D187. ⟨10.1149/1.2826280⟩
DOI: DOI : 10.1149/1.2826280
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2007

auteur: Remi Dussart, Xavier Mellhaoui, Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson
titre: The passivation layer formation in the cryo-etching plasma process
article: Microelectronic Engineering, 2007, 84, pp.1128. ⟨10.1016/j.mee.2007.01.048⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.mee.2007.01.048
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auteur: Thomas Tillocher, Remi Dussart, Xavier Mellhaoui, Philippe Lefaucheux, Mohamed Boufnichel, Pierre Ranson
titre: Silicon cryo-etching of deep holes
article: Microelectronic Engineering, 2007, 84, pp.1120. ⟨10.1016/j.mee.2007.01.148⟩
DOI: DOI : 10.1016/j.mee.2007.01.148
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2006

auteur: Anne Lise Thomann, Nadjib Semmar, Rémi Dussart, Jacky Mathias, Vladislav Lang
titre: Diagnostic system for plasma/surface energy transfer characterization
article: Review of Scientific Instruments, 2006, 77 (2), pp.033501-6
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auteur: Emmanuel Odic, Alice Goldman, Max Goldman, Marielle Dhainaut, Rémi Dussart
titre: CURRENT DISTRIBUTION OF AC SURFACE DISCHARGES AND ASSOCIATED CHEMISTRY
article: Journal of Electrostatics, 2006, 64 (7-9), pp.477-484
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auteur: Thomas Tillocher, Philippe Lefaucheux, Xavier Mellhaoui, Remi Dussart, Pierre Ranson, Mohamed Boufnichel, Lawrence J. Overzet
titre: Oxidation threshold in silicon etching at cryogenic temperatures
article: Journal of Vacuum Science & Technology A, 2006, 24 (4), pp.1073. ⟨10.1116/1.2210946⟩
DOI: DOI : 10.1116/1.2210946
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